ASML给中国展示7nm光刻机!

世界光刻机巨头ASML亮相第三届进博会。在本次进博会上,ASML在自己的展台上晒出展示了DUV光刻机。

据悉,ASML之所以没有展示新的EUV光刻机,主要是因为他们目前仍不能向中国出口EUV光刻机,而此次展示的DUV光刻机可生产7nm及以上制程芯片。

ASML此次也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。

在这之前,ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况,其表示一些情况下,出口光刻机是不需要许可证的。

Roger Dassen指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。

美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限制其他国家对中国进口,荷兰并不在美国的禁令范围内。

目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。【责任编辑/林羽】

来源:中国半导体论坛

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